10。3、純,水10。3、1。芯片生產過程中需大量使用超純水作為清洗用水,我國水資源短缺,淡水資源總量約每年26200億m3,人均占有量為每年2392m3。為世界人均占有量的1 4,名列第110位、由于各地區(qū)處于不同的水文帶及受季風氣候影響、水資源與土地。礦產資源分布和工業(yè)用水結構不相適應,水污染嚴重。水質型缺水更加劇了水資源的短缺,高速擴張的產能和日益匱乏的水資源的尖銳對立。如何合理的制水。用水并綜合利用水資源是硅集成電路芯片工廠純水系統(tǒng)設計的基礎,純水制備系統(tǒng)需根據(jù)生產工藝的要求合理制定制備系統(tǒng)規(guī)模和供水水質.超純水制備可利用水源 包括自來水以外的再生水、甚至廢水處理站處理后的水,體現(xiàn)面對水資源匱乏.設計中不能只考慮自來水.而忽略其他水源.10。3。3,實踐證明采用循環(huán)供水方式是行之有效的 主要是基于保證輸水管道內的流速和盡量減少不循環(huán)段的死水區(qū),以減少純水在管道內的停留時間,減少管道材料微量溶出物,即使目前質量最好的管道也會有微量溶出物、對超純水水質的影響.同時 較高的流速還可以防止細菌微生物的滋生.10,3、6、純水系統(tǒng)管材的選擇方面、主要應考慮三方面的因素 材料的化學穩(wěn)定性,純水是一種極好的溶劑。為了保證在輸送過程中純水水質下降最小 必須選擇化學穩(wěn)定性極好的管材、也就是在所要求的純水中的溶出物最小、溶出物的多少應由材料的溶出試驗確定,其中包括金屬離子.有機物的溶出等 管道內壁的光潔度,若管道內壁有微小的凹凸。會造成微粒的沉積和微生物的繁殖、導致微粒和細菌兩項指標的不合格、目前聚偏氟乙烯 PVDF、管道內壁粗糙度可達小于1μm的水平 而不銹鋼管約為幾十微米。管道及管件接頭處的平整度對于防止產生流水的渦流區(qū)是非常重要的.10.3 8,10 3 9。純水作為清洗用水經過工藝生產設備使用后,應盡可能做到。清污分流,選擇收集低污染度的清洗廢水作為純水制備的原水或其他次級用水的原水 促進水的循環(huán)利用和重復使用,實現(xiàn)高效率的一水多用,是實現(xiàn)純水系統(tǒng)和全廠高回用率的關鍵所在。用后純水的重復利用,既要達到高的回用率。同時也必須保證工藝設備的用水安全 因此確定回收水水質對純水系統(tǒng)設計影響很大,回收水水質必須根據(jù)回收系統(tǒng)的處理工藝和處理能力來確定.在設計初期必須結合目前成熟可靠的工程技術和經濟條件,做好相關的技術評估工作.既要確定可供安全回收的回收水水質 也必須考慮到回收水水質變化對純水系統(tǒng)的影響和沖擊、根據(jù)國內硅集成電路芯片工廠運行經驗以及國外同類工廠的技術水平、6英寸硅集成電路芯片工廠的工藝廢水的回用率不應低于50、8英寸,12英寸硅集成電路芯片工廠的工藝廢水的回用率不應低于75,