3,3,工藝布局3,3.1。工藝布置應(yīng)滿足產(chǎn)品類型,規(guī)劃和產(chǎn)能目標(biāo)的要求、3。3,2 工藝布局應(yīng)根據(jù)生產(chǎn)工序分為包含光刻,刻蝕.清洗。氧化,擴(kuò)散。濺射,化學(xué)氣相淀積,離子注入等工序在內(nèi)的核心生產(chǎn)區(qū),以及包括更衣,物料凈化.測試等工序在內(nèi)的生產(chǎn)支持區(qū).3,3。3、核心生產(chǎn)區(qū)的布局應(yīng)圍繞光刻工序?yàn)橹行倪M(jìn)行布置,圖3 3。3、工藝布局應(yīng)縮短硅片傳送距離 并應(yīng)避免硅片發(fā)生工序間交叉污染.圖3,3、3.硅集成電路芯片生產(chǎn)工藝流程3。3。4。4英寸.6英寸芯片核心生產(chǎn)區(qū)宜采用港灣式布局、3 3,5,8英寸,12英寸芯片核心生產(chǎn)區(qū)宜采用微環(huán)境和標(biāo)準(zhǔn)機(jī)械接口系統(tǒng),并宜采用大空間式布局、3。3、6、8英寸、12英寸芯片核心生產(chǎn)區(qū)宜將生產(chǎn)輔助設(shè)備布置在下技術(shù)夾層,3,3.7,工藝設(shè)備的間隔應(yīng)滿足相鄰設(shè)備的維修和操作需求,3.3.8。操作人員走道的寬度應(yīng)符合下列原則 1、應(yīng)滿足設(shè)備正常操作的需要。2,應(yīng)滿足人員通行和材料搬運(yùn)的需要,3 應(yīng)滿足材料暫存的需要,3,3 9,生產(chǎn)廠房宜設(shè)置參觀走道,并應(yīng)避免影響生產(chǎn)的人流和物流路線以及應(yīng)急疏散,3。3 10,8英寸、12英寸芯片生產(chǎn)宜根據(jù)生產(chǎn)規(guī)模設(shè)置自動(dòng)物料處理系統(tǒng),AMHS,