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5,薄膜基板制造工藝設(shè)備安裝.調(diào)試及試運(yùn)行5,1 一般規(guī)定5、1,1,薄膜工藝是在已選擇好的基片上淀積金屬或金屬化合物 一般在基片上順序地淀積一層電阻材料、一層阻擋金屬材料和一層頂層導(dǎo)體材料。這些層相當(dāng)薄??捎谜婵照舭l(fā),濺射淀積.化學(xué)氣相淀積工藝和這些工藝的變種,本章根據(jù)典型的薄膜基板制造工藝過(guò)程.即機(jī)械拋光 基片清洗,濺射種子層。聚酰亞胺涂敷.濺射鈦層,光刻A1版,刻蝕.去膠,電鍍,去除Ti。聚酰亞胺層。光刻A1反版,腐蝕種子層。去膠、同時(shí)考慮突出設(shè)備專用于薄膜工藝的特點(diǎn),列出了磁控濺射鍍膜機(jī),真空蒸發(fā)鍍膜機(jī),化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)、旋涂及熱板系統(tǒng) 曝光機(jī)、顯影臺(tái),反應(yīng)離子刻蝕機(jī),化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)等8種主要工藝設(shè)備 對(duì)各設(shè)備的安裝及試運(yùn)行要求作出具體規(guī)定,5。1.3 本節(jié)所涉及的測(cè)試儀器有、萬(wàn)能工具顯微鏡。膜厚測(cè)試儀。工具顯微鏡
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