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5，2.磁控濺射鍍膜機(jī)5、2、1 磁控濺射鍍膜機(jī)的安裝應(yīng)符合下列規(guī)定。1、循環(huán)冷卻水路進(jìn).出口水管的絕緣管長(zhǎng)度不應(yīng)小于1m、射頻磁控濺射設(shè)備的冷卻水路進(jìn),出口水管的絕緣管長(zhǎng)度不應(yīng)小于5m，2,循環(huán)冷卻水溫度應(yīng)在15，25、壓力應(yīng)滿足設(shè)備使用要求 3、設(shè)備接地電阻應(yīng)小于4Ω,5,2、2 磁控濺射鍍膜機(jī)的調(diào)試及試運(yùn)行應(yīng)符合下列規(guī)定、1,待濺射基板應(yīng)清洗 并應(yīng)在烘干后安裝到機(jī)內(nèi)的載片臺(tái)上、2。設(shè)備通電后,應(yīng)檢查設(shè)備操作軟件是否工作正常，3,應(yīng)檢查各運(yùn)動(dòng)部件是否正常、并應(yīng)對(duì)各運(yùn)動(dòng)部件進(jìn)行位置校正.4 應(yīng)安裝好濺射靶材,靶對(duì)機(jī)殼的絕緣電阻不得小于1MΩ,5,應(yīng)檢測(cè)設(shè)備管路接口是否漏氣，具備加熱功能的管路應(yīng)先空載烘烤。6，啟動(dòng)機(jī)械泵，分子泵,低溫泵時(shí)、運(yùn)行狀態(tài)應(yīng)正常，噪聲 振動(dòng)應(yīng)符合要求、真空室真空度可在規(guī)定時(shí)間內(nèi)降到規(guī)定值 本底真空的壓力值應(yīng)控制在2,10，4Pa以下、極限真空度應(yīng)可達(dá)到4。10 5Pa。7。設(shè)備正常運(yùn)行時(shí) 濺射室的極限壓力增長(zhǎng)不得超過(guò)3。8。應(yīng)通入工藝氣體并確保送氣量平穩(wěn)，9。應(yīng)按規(guī)定設(shè)置濺射程序及濺射功率、濺射氣壓 10.應(yīng)在保證濺射室真空度 設(shè)備正常起輝的情況下運(yùn)行濺射程序、11、在機(jī)械臂自動(dòng)傳送基板時(shí)檢查傳送機(jī)械臂 并應(yīng)校正機(jī)械臂到各個(gè)腔室以及取送基板的位置。校正完成后,應(yīng)進(jìn)行不間斷的基板傳送測(cè)試。傳送路徑應(yīng)包括所有腔室 12，濺射程序自動(dòng)完成后取出已濺膜基板，測(cè)試膜層的膜厚均勻性及附著力應(yīng)滿足要求.