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- 微組裝生產(chǎn)線工藝設(shè)備安裝工程施工及驗收規(guī)范 GB 51037-2014
- 1 總 則
- 2 術(shù) 語
- 3 基本規(guī)定
- 4 低溫共燒陶瓷及厚膜基板制造工藝設(shè)備安裝、調(diào)試及試運行
- 5 薄膜基板制造工藝設(shè)備安裝、調(diào)試及試運行
- 5.1 一般規(guī)定
- 5.2 磁控濺射鍍膜機
- 5.3 真空蒸發(fā)鍍膜機
- 5.4 化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)
- 5.5 旋涂及熱板系統(tǒng)
- 5.6 曝 光 機
- 5.7 顯 影 臺
- 5.8 反應(yīng)離子刻蝕機
- 5.9 化學(xué)機械拋光機
- 6 組裝封裝工藝設(shè)備安裝、調(diào)試及試運行
- 7 工藝檢測設(shè)備安裝、調(diào)試及試運行
- 8 工程驗收
- 附錄A 微組裝生產(chǎn)線工藝設(shè)備安裝工程驗收記錄用表
- 本規(guī)范用詞說明
- 引用標(biāo)準(zhǔn)名錄
- 條文說明
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- 標(biāo)準(zhǔn)尺寸 GB/T 2822-2005
- 空氣凈化器智能模式技術(shù)要求及試驗方法 T/CAQI 85-2019
- 焦化機械設(shè)備安裝規(guī)范[附條文說明] GB 50967-2014
5、薄膜基板制造工藝設(shè)備安裝 調(diào)試及試運行5.1,一般規(guī)定5.1 1.薄膜基板制造工藝設(shè)備主要應(yīng)包括磁控濺射鍍膜機,真空蒸發(fā)鍍膜機,化學(xué)氣相淀積系統(tǒng).旋涂及熱板系統(tǒng)、曝光機 顯影臺，反應(yīng)離子刻蝕機，化學(xué)機械拋光機 5、1,2,薄膜基板制造工藝設(shè)備應(yīng)滿足工藝線聯(lián)線要求.并可通過薄膜標(biāo)準(zhǔn)測試版產(chǎn)品的生產(chǎn)和膜層性能指標(biāo)的測試來驗證薄膜關(guān)鍵工藝設(shè)備組線時的相關(guān)性能指標(biāo) 5 1，3。旋涂及熱板系統(tǒng)、顯影臺,曝光機應(yīng)置于相對濕度45、5 溫度22。2 潔凈度6級或優(yōu)于6級凈化并用黃光照明的環(huán)境中 其他薄膜基板制造工藝設(shè)備應(yīng)安裝在潔凈度6級或優(yōu)于6級凈化的潔凈間中 溫度宜為18、25.相對濕度宜為40 60。