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- 多晶硅工廠設(shè)計規(guī)范 GB 51034-2014
- 1 總 則
- 2 術(shù) 語
- 3 基本規(guī)定
- 4 廠址選擇及廠區(qū)規(guī)劃
- 5 工藝設(shè)計
- 6 電氣及自動化
- 7 輔助設(shè)施
- 7.1 壓縮空氣站
- 7.2 制 氮 站
- 7.3 制 氫 站
- 7.4 導(dǎo) 熱 油
- 7.5 純水制備
- 7.6 制 冷
- 7.7 蒸 汽
- 8 建筑結(jié)構(gòu)
- 9 給水、排水和消防
- 10 采暖、通風(fēng)與空氣調(diào)節(jié)
- 11 環(huán)境保護、安全和衛(wèi)生
- 12 節(jié)能、余熱回收
- 附錄A 地下管線與建(構(gòu))筑物之間的最小水平凈距
- 附錄B 地下管線之間的最小水平凈距
- 附錄C 主要房間空氣潔凈度、溫度、濕度
- 本規(guī)范用詞說明
- 引用標(biāo)準(zhǔn)名錄
- 條文說明
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7,5 純水制備7 5。1、硅芯,石墨件及硅料清洗應(yīng)采用純水、7。5,2 純水站位置應(yīng)滿足工藝總體布局的要求，并應(yīng)就近用水設(shè)備布置。7.5 3 純水水質(zhì)指標(biāo)不應(yīng)低于表7，5.3的規(guī)定.表7。5 3 純水水質(zhì)指標(biāo).注。表中第11項、第34項采用電感耦合等離子體質(zhì)譜.ICP MS 檢測,7。5。4，純水儲存和分配應(yīng)符合下列規(guī)定、1。純水儲存罐體和輸送管道材料應(yīng)滿足生產(chǎn)工藝的水質(zhì)要求。宜選擇潔凈聚氯乙烯管.Clean.PVC、聚偏二氟乙烯管。PVDF、等管材、管道附件與閥門等應(yīng)采用與管道相同的材質(zhì).2。純水輸送管道系統(tǒng)應(yīng)采用循環(huán)方式,設(shè)計和安裝時。不應(yīng)出現(xiàn)使水滯留和不易清潔的部位、循環(huán)干管的流速宜大于1。5m，s、不循環(huán)的支管長度不應(yīng)大于管徑的6倍，3、純水儲罐和輸送系統(tǒng)應(yīng)設(shè)置清洗系統(tǒng)，7、5，5、純水制備.儲存和分配應(yīng)符合現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn).電子工業(yè)純水系統(tǒng)設(shè)計規(guī)范.GB,50685的有關(guān)規(guī)定.