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- 電子工業(yè)廢氣處理工程設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn) GB 51401-2019
- 1 總則
- 2 術(shù)語(yǔ)
- 3 基本規(guī)定
- 4 工藝及工藝設(shè)備
- 5 堿性廢氣系統(tǒng)
- 6 酸性廢氣系統(tǒng)
- 7 揮發(fā)性有機(jī)物廢氣系統(tǒng)
- 8 特種廢氣系統(tǒng)
- 9 除塵系統(tǒng)
- 10 電子玻璃窯爐廢氣系統(tǒng)
- 10．1 一般規(guī)定
- 10．2 系統(tǒng)設(shè)計(jì)、處理流程及方法
- 10．3 處理設(shè)備
- 10．4 風(fēng)管及附件
- 11 事故通風(fēng)
- 12 電氣設(shè)計(jì)
- 附錄A 電子工業(yè)常用高毒物品的立即危害生命和健康濃度(IDLH)
- 本標(biāo)準(zhǔn)用詞說(shuō)明
- 引用標(biāo)準(zhǔn)名錄
- 條文說(shuō)明
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10 2，系統(tǒng)設(shè)計(jì) 處理流程及方法10.2 1.當(dāng)窯爐有兩個(gè)廢氣出口時(shí).宜分別設(shè)置排氣系統(tǒng).10、2、2 窯爐生產(chǎn)設(shè)備廢氣出口與生產(chǎn)廢氣收集總風(fēng)管應(yīng)分別設(shè)置壓力控制系統(tǒng).10,2，3。生產(chǎn)廢氣收集及處理設(shè)施應(yīng)主要包括廢氣收集、電、氣動(dòng)閥門 降溫設(shè)施，酸性廢氣處理設(shè)備，除塵設(shè)備 脫硝設(shè)備，自動(dòng)控制系統(tǒng),化學(xué)品供應(yīng)系統(tǒng)、風(fēng)機(jī)，風(fēng)管、10、2.4 當(dāng)廢氣中含有少量的氯.氟 硫。砷等有害物質(zhì)時(shí),宜在蒸發(fā)冷卻塔噴淋液中加入堿或其他還原劑。10，2。5、廢氣進(jìn)入噴淋冷卻塔前宜采用室外空氣降溫 且降溫后廢氣相對(duì)濕度不宜超過(guò)10、10，2、6,廢氣脫硝可采用20，60。的常溫脫硝，80.120,的低溫脫硝,180,450、的中溫脫硝及800.1100,的高溫脫硝等方式、脫硝設(shè)計(jì)應(yīng)符合下列規(guī)定。1、常溫脫硝宜采用化學(xué)洗滌，或臭氧氧化還原法。AOP。2,低溫脫硝宜采用活性焦炭逆流式選擇性催化還原法。CSCR 也可采用化學(xué)洗滌,或臭氧氧化還原法.AOP,3 中溫脫硝宜采用選擇性催化還原法、SCR.4、高溫脫硝宜采用選擇性非催化還原法 SNCR 或高效選擇性非催化還原法,HESNCR、10。2,7、當(dāng)生產(chǎn)堿性玻璃時(shí)、不應(yīng)采用中溫選擇性催化還原法,SCR 10，2、8.當(dāng)采用催化還原法去除廢氣中的氮氧化物時(shí)、氨的逃逸率不應(yīng)超過(guò)8mg.m3。