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- 電鍍廢水治理設(shè)計(jì)規(guī)范 GB 50136-2011
- 1 總 則
- 2 術(shù)語和符號
- 3 基本規(guī)定
- 4 鍍件的清洗
- 5 化學(xué)處理法
- 6 離子交換處理法
- 7 電解處理法
- 8 內(nèi)電解處理法
- 8．1 連續(xù)式處理
- 8．2 間歇式處理
- 8．3 工藝參數(shù)
- 9 污泥處理
- 10 廢水處理站設(shè)計(jì)
- 附錄A 鍍件單位面積的鍍液帶出量
- 附錄B 離子交換柱的設(shè)計(jì)
- 附錄C 電解槽設(shè)計(jì)
- 引用標(biāo)準(zhǔn)名錄
- 本規(guī)范用詞說明
- 條文說明
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8。3、工藝參數(shù)8.3。1,采用內(nèi)電解法廢水處理工藝。廢水與鑄鐵屑的接觸反應(yīng)時(shí)間不宜少于20min.鑄鐵屑的裝填高度宜為1m。1.5m。鑄鐵屑粒徑宜大于1mm，8,3 2 內(nèi)電解處理設(shè)備停止運(yùn)行時(shí),應(yīng)保持設(shè)備內(nèi)的水位浸沒鑄鐵屑,遇有維修需排空設(shè)備內(nèi)的廢水時(shí).其維修和注滿水的總時(shí)間不應(yīng)超過4h,8 3、3,經(jīng)內(nèi)電解法處理后 廢水中污泥濃度可按下式計(jì)算。Cjs,4C1。2C2.1，6C3,Css、8.3。3。