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- 電鍍廢水治理設(shè)計(jì)規(guī)范 GB 50136-2011
- 1 總 則
- 2 術(shù)語(yǔ)和符號(hào)
- 3 基本規(guī)定
- 4 鍍件的清洗
- 5 化學(xué)處理法
- 6 離子交換處理法
- 7 電解處理法
- 8 內(nèi)電解處理法
- 8．1 連續(xù)式處理
- 8．2 間歇式處理
- 8．3 工藝參數(shù)
- 9 污泥處理
- 10 廢水處理站設(shè)計(jì)
- 附錄A 鍍件單位面積的鍍液帶出量
- 附錄B 離子交換柱的設(shè)計(jì)
- 附錄C 電解槽設(shè)計(jì)
- 引用標(biāo)準(zhǔn)名錄
- 本規(guī)范用詞說(shuō)明
- 條文說(shuō)明
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8，2、間歇式處理8,2、1。內(nèi)電解法處理含鉻廢水 當(dāng)廢水量小于或等于40m3。d時(shí) 宜采用間歇式處理工藝,8.2.2，采用間歇式循環(huán)處理工藝時(shí)、可采用圖8,2 2的基本工藝流程.圖8 2.2.間歇式內(nèi)電解法處理含鉻廢水的基本工藝流程.8.2,3，采用間歇式處理工藝時(shí)。進(jìn)入處理系統(tǒng)的廢水水質(zhì)應(yīng)符合表8.2,3的規(guī)定.表8。2 3。處理系統(tǒng)進(jìn)水水質(zhì)、mg，L.注cpH值無(wú)量綱 8、2、4。間歇式處理工藝.廢水在內(nèi)電解處理設(shè)備內(nèi)的流速不宜低于20m，h，8,2 5、間歇式處理工藝的調(diào)節(jié)池和反應(yīng)池的有效容積不宜小于正常情況下日排水量的1。2，一個(gè)處理周期宜為3h 4h，8、2.6 間歇式處理的反應(yīng)終點(diǎn)應(yīng)以六價(jià)鉻達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)為止。