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- 電鍍廢水治理設(shè)計(jì)規(guī)范 GB 50136-2011
- 1 總 則
- 2 術(shù)語(yǔ)和符號(hào)
- 3 基本規(guī)定
- 4 鍍件的清洗
- 5 化學(xué)處理法
- 5．1 含氰廢水
- 5．2 含鉻廢水
- 5．3 含鎘廢水
- 5．4 混合廢水
- 6 離子交換處理法
- 7 電解處理法
- 8 內(nèi)電解處理法
- 9 污泥處理
- 10 廢水處理站設(shè)計(jì)
- 附錄A 鍍件單位面積的鍍液帶出量
- 附錄B 離子交換柱的設(shè)計(jì)
- 附錄C 電解槽設(shè)計(jì)
- 引用標(biāo)準(zhǔn)名錄
- 本規(guī)范用詞說(shuō)明
- 條文說(shuō)明
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5.3、含鎘廢水5.3,1,化學(xué)法處理含鎘廢水時(shí)、宜采用氫氧化物沉淀 廢水中鎘離子濃度不宜大于50mg,L。5.3、2，采用氫氧化物沉淀處理含鎘廢水時(shí)、其廢水中不得含有氰化物 5,3，3、化學(xué)法處理含鎘廢水可采用圖5。3,3的基本工藝流程,圖5 3.3，化學(xué)法處理含鎘廢水的基本工藝流程5，3、4。廢水反應(yīng)的pH值應(yīng)大于或等于11 反應(yīng)的時(shí)間宜為10min、15min,反應(yīng)池宜設(shè)置機(jī)械攪拌或水力攪拌.