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- 薄膜晶體管顯示器件玻璃基板生產(chǎn)工廠設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn) GB 51432-2020
- 條文說(shuō)明
- 1 總 則
- 2 術(shù) 語(yǔ)
- 3 基本規(guī)定
- 4 工 藝
- 5 選址與總圖
- 6 建 筑
- 7 結(jié) 構(gòu)
- 8 氣體動(dòng)力
- 9 采暖、通風(fēng)、除塵、空氣調(diào)節(jié)與凈化
- 9.2 采暖、通風(fēng)、防排煙
- 9.3 除塵、熔爐煙氣處理系統(tǒng)
- 9.4 空氣調(diào)節(jié)與凈化
- 10 給水排水
- 11 電 氣
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9 3，除塵。熔爐煙氣處理系統(tǒng)9,3、3,除塵系統(tǒng)可以采用集中式.分散式或就地除塵系統(tǒng)，對(duì)于粉塵粒徑較大且粉塵產(chǎn)生量很大的設(shè)備,要求除塵系統(tǒng)集中維護(hù)管理的場(chǎng)合建議采用集中式除塵系統(tǒng)。對(duì)于孤立偏遠(yuǎn)的塵源，建議采用就地式除塵系統(tǒng)、9。3.4 當(dāng)粉塵粒徑較大且濃度較高時(shí)，建議采用袋式或?yàn)V筒式等干式除塵器，當(dāng)粉塵粒徑較小且濃度較低或總量較低時(shí)。建議采用過(guò)濾的形式，9.3.6。酸性廢氣處理設(shè)備的設(shè)置與生產(chǎn)原料有關(guān)系.若生產(chǎn)原料帶氯或其他酸氣 F 則系統(tǒng)要設(shè)置酸性廢氣處理設(shè)備,一般為噴淋設(shè)備、或半干式吸收塔,兩者須按實(shí)際情況選用 9。3，7，煙氣脫硝工藝一般含下列方案,常溫脫硝工藝。20，40 如化學(xué)洗滁 或臭氧。AOP、氧化還原。低溫脫硝工藝.80 120。如CSCR,中溫脫硝工藝.180,450,如SCR，高溫脫硝工藝，900。1050，如SNCR或HESNCR、9.3.8.本條對(duì)玻璃基板工廠熔爐廢氣收集系統(tǒng)風(fēng)管設(shè)計(jì)做了規(guī)定、1 熔爐排放的煙氣，計(jì)算運(yùn)行工況下收集系統(tǒng)內(nèi)煙氣體積流量。此時(shí)要考慮溫度引起煙氣體體積流量變化的情況.5。設(shè)立排水口是為了將風(fēng)管內(nèi)的冷凝水排出，排水口還要有一定斜度.如1、100或1 200,這也是有利冷凝水的排出、風(fēng)管的低點(diǎn)排水裝置所收集的酸性冷凝水排至相應(yīng)的廢水管網(wǎng)中