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- 電磁波暗室工程技術(shù)規(guī)范 GB 50826-2012
- 條文說明
- 1 總 則
- 2 術(shù) 語
- 3 基本規(guī)定
- 4 電磁波暗室分類
- 5 總體設(shè)計
- 6 工藝設(shè)計
- 7 吸波及電磁屏蔽工程設(shè)計
- 7.1 吸波工程設(shè)計
- 7.2 電磁屏蔽工程設(shè)計
- 8 建筑與結(jié)構(gòu)設(shè)計
- 9 公用工程設(shè)計
- 10 電磁屏蔽和吸波工程施工
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7。吸波及電磁屏蔽工程設(shè)計7,1。吸波工程設(shè)計7、1、1、電磁波暗室總體和工藝設(shè)計所確立的暗室方案與要求。主要包括暗室體型尺寸。測量系統(tǒng)設(shè)備布局、試驗操作運(yùn)行姿態(tài) 靜區(qū)性能等 暗室吸波工程設(shè)計可根據(jù)約定 承擔(dān)暗室總體方案制定 在上述暗室方案與要求已經(jīng)確認(rèn)的基礎(chǔ)上 選擇和布局吸波材料 7，1，2。暗室各內(nèi)壁面產(chǎn)生的反射電磁波能量通過合成而對靜區(qū)靜度有不同程度的貢獻(xiàn) 在合理的暗室尺寸和正確的吸波材料布局情況下,靜區(qū)靜度一般比吸波材料性能低3dB,6dB、所以主反射區(qū)吸波材料宜選擇反射性能優(yōu)于靜區(qū)靜度要求的3dB.6dB。在鄰近主反射區(qū)四周的吸波材料，其高度可選擇主反射區(qū)吸波材料高度的0、7倍或以上、