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6 工藝設(shè)計6.0,1 不同暗室的體型尺寸差異大,各個功能性房間要求和組成不一.并且相對位置關(guān)系要求嚴(yán)格.因此 建筑設(shè)計平面布局應(yīng)以暗室為核心展開.既要保證暗室體型和尺寸要求.又要保證各功能性房間的相對位置關(guān)系要求。才能夠?qū)崿F(xiàn)暗室功能和技術(shù)性能、有利于運行操作安全、方便,建筑才能夠給暗室建設(shè)合理地支撐、6.0.3.主反射區(qū)是影響暗室靜區(qū)靜度的關(guān)鍵區(qū)域,如在主反射區(qū)開門.由于結(jié)構(gòu)原因 在門與墻壁處,既容易造成電磁波反射程度不一致的背景差異、又會增加反射程度、降低靜區(qū)靜度.6。0、6,當(dāng)暗室內(nèi)部有多套測量系統(tǒng)時、由于各測量系統(tǒng)設(shè)備之間的電磁耦合作用、會對測量造成相互間的干擾,因此,暗室體型尺寸應(yīng)留有空間隔離或其他隔離方式所需要的空間 避免因測量系統(tǒng)之間的較強(qiáng)耦合 造成測量不確定度的惡化,6 0,7、隨著電磁波入射角的增加.電磁波吸收材料吸收性能會下降、通過控制暗室內(nèi)壁寬度W和高度H.使電磁波在壁面上產(chǎn)生的反射不因入射角度過大,而有所快速明顯增加.6,0、11、1、2,1。3 2.2.3。1、3、2、4、1類暗室測量系統(tǒng)在高度方向布局需要考慮設(shè)備安裝的實際需求.
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