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- 建筑衛(wèi)生陶瓷工廠設(shè)計(jì)規(guī)范 GB 50560-2010
- 1 總 則
- 2 術(shù)語(yǔ)和符號(hào)
- 3 設(shè)計(jì)規(guī)模及依據(jù)
- 4 廠址選擇及總體規(guī)劃
- 5 總圖運(yùn)輸
- 6 原材料和輔助材料
- 7 燃料與燃料系統(tǒng)
- 8 生產(chǎn)工藝
- 8.1 一般規(guī)定
- 8.2 工藝流程
- 8.3 原料加工及坯料制備
- 8.4 釉料制備
- 8.5 石膏模型制作
- 8.6 成 型
- 8.7 干 燥
- 8.8 施 釉
- 8.9 燒 成
- 8.10 冷加工
- 8.11 檢 驗(yàn)
- 8.12 包裝、成品堆放
- 9 供配電
- 10 自動(dòng)化
- 11 建筑結(jié)構(gòu)
- 12 給水與排水
- 13 采暖、通風(fēng)與除塵
- 14 其他生產(chǎn)設(shè)施
- 15 節(jié) 能
- 16 環(huán)境保護(hù)
- 17 職業(yè)安全衛(wèi)生
- 附錄A 建筑衛(wèi)生陶瓷工廠建筑物(或構(gòu)筑物)生產(chǎn)的火災(zāi)危險(xiǎn)性類別、最低耐火等級(jí)及防火間距
- 附錄B 建筑衛(wèi)生陶瓷工廠各類地點(diǎn)噪聲標(biāo)準(zhǔn)
- 附錄C 生產(chǎn)車間及輔助建筑最低照度標(biāo)準(zhǔn)
- 附錄D 地下管線與建筑物(或構(gòu)筑物)之間的最小水平凈距
- 附錄E 地下管線之間的最小水平凈距
- 附錄F 地下管線之間的最小垂直凈距
- 附錄G 建筑衛(wèi)生陶瓷工廠建筑物通風(fēng)換氣次數(shù)
- 附錄H 除塵風(fēng)管內(nèi)的最小風(fēng)速
- 附錄J 各種能源折標(biāo)準(zhǔn)煤系數(shù)
- 本規(guī)范用詞說(shuō)明
- 引用標(biāo)準(zhǔn)名錄
- 條文說(shuō)明
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8,8。施，釉8 8、1.陶瓷磚宜采用施釉線施釉。衛(wèi)生陶瓷宜采用噴釉柜施釉，其排水。排污管道宜采用手工或半機(jī)械化澆釉,8.8.2、衛(wèi)生陶瓷生釉層厚度宜為0 5mm 1,0mm 8，8、3 施釉工序車間的采光不應(yīng)低于三級(jí),8.8、4，衛(wèi)生陶瓷噴釉工序操作面積 應(yīng)按日產(chǎn)100件坯體需面積35m2、40m2設(shè)置.不足100件者按100件計(jì) 8,8，5 陶瓷磚施釉線用壓縮空氣的壓力不應(yīng)小于0、2MPa 衛(wèi)生陶瓷噴釉壓縮空氣壓力宜為0。1MPa，0,6MPa。8.8、6，施釉車間應(yīng)有防塵措施