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5 3、靜電敏感電氣或電子元件,組件和設(shè)備5，3，1，本條根據(jù)國際電工委員會標準.電氣或電子元件、組件和設(shè)備防靜電技術(shù)要求.IEC,61340、5。1,2007規(guī)定.其防靜電工作區(qū)的防護等級.以靜電安全電壓.100V為界限值分為兩級。當靜電安全電壓小于或等于、100V時。該防靜電工作區(qū)的地面電阻值小于107Ω。其適用場所如下、1，微電子器件制造和測試場所.包括.1。芯片的氧化。擴散 清洗?？涛g。薄膜。離子注入,CMP.光刻。檢測,設(shè)備區(qū)等工序 2。芯片封裝的劃片.鍵合。封裝等工序.3.TFT液晶制造的陣列板。薄膜 光刻，刻蝕、剝離、成盒,涂覆,摩擦。液晶注入、切割，磨邊。模塊 彩模板 C、F。等工序，2,電子產(chǎn)品生產(chǎn)過程中操作靜電敏感器件的場所.包括,1,硬盤制造，HDD。區(qū).2。等離子電視,PDP,核心區(qū) 3,彩色顯像管表面處理工序、4。高密磁帶制造,5,光導(dǎo)纖維制造。6.光盤制造工序 7 磁頭生產(chǎn)的核心區(qū),當靜電安全電壓大于 100V時 該防靜電工作區(qū)的地面電阻值小于109Ω,其適用場所如下。1、靜電敏感精密電子儀器的測試和維修場所，2、靜電敏感電子器件制造和測試場所,包括,1、半導(dǎo)體材料制造的拉單晶，磨、拋，外延等工序。2,STN液晶制造,3.硬盤制造除制造區(qū)外的其他區(qū)。4 等離子電視，PDP,的支持區(qū).5、鋰電池制造。晾干工藝和其他地區(qū),6，彩色顯像管制造.錐石墨涂覆，陰罩裝配等工序。7、印制版的照相。制版干膜工序、8，光導(dǎo)纖維的預(yù)制棒，拉絲工序,9、磁頭生產(chǎn)的清洗區(qū) 10 片式陶瓷電容、片式電阻等制造、絲印、流延工序。11 聲表面波器件制造。光刻.顯影。鍍膜。清洗,劃片 封帽工序 3、除上述范圍以外的電子器件和整機的組裝調(diào)試場所，4 存在外部電磁干擾.必須對環(huán)境中電子設(shè)備和設(shè)施提供最基本防靜電保護的場所 5。3,2 本條對計算機房及各類通信,管制。遙測 遙控，調(diào)度 指揮中心等場所的地面選擇作出規(guī)定。這些場所因使用環(huán)境的需要.有大量的輸入輸出信號電纜連接.因此。多采用活動地板,電性能指標比較穩(wěn)定的活動地板,有水磨石地板，天然花崗巖和由基材,防靜電貼面板及導(dǎo)通件組成的復(fù)合活動地板等.花崗巖屬火成巖，含有二氧化硅等成分,是很好的防靜電面層材料.編制組對我國東北 西北、華北，華東.華中、華南十幾個省所產(chǎn)的花崗巖和美國。意大利等國進口的花崗巖.進行過大量的調(diào)研和電性能測試，結(jié)果表明。上述各地,各種花樣的花崗巖的體積電阻率都在109Ω、cm以下、這是材料本身的固有性能 在設(shè)計，施工防靜電地面或活動地板時 可局部采用活動地板.而場所其余部分仍采用防靜電建筑地面,這樣、其地面面層類型的選擇面更大一些，如選擇復(fù)合防靜電瓷板 防靜電樹脂類活動地板等。在進行產(chǎn)品比選時。應(yīng)先進行樣品檢測.確認符合要求后再選用、不論采用何種類型架空活動地板 其結(jié)構(gòu),強度和電性能等。都應(yīng)滿足本規(guī)范的要求 5.3、3,移動式地墊是臨時性防靜電地面 適用于臨時構(gòu)建的防靜電工作區(qū) 滿足有防靜電要求的設(shè)備維護 檢修的某些局部性的防靜電工作區(qū),移動地墊種類較多.常用的是防靜電塑膠地墊.它一般由底層。導(dǎo)電橡膠，中間層,布料，面層,防靜電塑膠、三層結(jié)構(gòu)組成。此外還有防靜電織品類、防靜電非織造布類等材質(zhì)做成的地墊、防靜電移動式地墊使用時應(yīng)可靠接地。